Trap Tank System
Spezielles Lack-Dispenssystem für Wafer Belacker
Mit unserem amcoss Trap Tank System haben wir ein besonderes, innovatives und effizientes Lack-Dispenssystem entwickelt, das sowohl in unseren amcoss Einzelwafer-Bearbeitungsanlagen eingebaut, als auch in Belackern anderer Hersteller nachgerüstet werden kann. Es ersetzt herkömmliche Lackpumpen durch einen luft- oder gasbetriebenen Tank, was den Einsatz eines deutlich größeren Lackbehälters ermöglicht und lästige Blasenbildung vermeidet.
Funktionsweise
Das System besteht aus einem sensorkontrollierten Reservoir und einem Rücksaugdispensventil. Diese Ventil, das in der Nähe der Lackdüse angebracht ist, wird vom Reservoir gespeist. Das Lackvolumen wird durch Druck und Auslösezeit bestimmt.
Wenn das Reservoir einen niedrigen Füllstand erreicht, können trotzdem noch eine bestimmte Anzahl an Wafern bearbeitet werden. Außerdem ist das Gerät mit einem Stop der Senderkassette ausgestattet und das Reservoir wird automatisch mit Lack aus der Lackflasche nachgefüllt. Der Übervoll-Sensor verhindert, dass der Tank überläuft, falls der Voll-Sensor aufgrund eines technischen Defekts ausfallen sollte, indem er die automatische Befüllung stoppt. Das garantiert maximale Sicherheit.
Technische Daten
- Druckregulierung 0,1 mbar
- Gasfilter 0,001 µm
- Lackfilter gemäß Kundenspezifikation
- Dispensvolumen +/-0,1ml bzw. 10%
Nachrüstung von Anlagen anderer Hersteller
Vorteile des Systems
- Einfach zu reinigen
- Kundenspezifische Größe des Reservoirs (20 ml bis 250 ml) macht mehrfachen Seriendispens möglich
- Keine Lackverschwendung Dank des effizienten Nachfüllverfahrens
- Blasenbildung wird verhindert, da der Lack oben in den Trap Tank eintritt und am Tankboden wieder austritt
- Kleine Mengen von Lackmustern sind machbar
- Außerordentlich verlässlich, kosteneffizient und wartungsarm aufgrund der reduzierten Anzahl an mechanischen Teilen
- Der Dispens von hochviskosen Lacken bis zu 14.000 cps ist möglich
- Kein Hochdruck in der Dispensleitung, was die Abscheidung von Lösungsmitteln im Fotolack sowie die Entstehung von Streifen und Flecken verhindert
